Chemia i farmaceutyka

Technologia fizycznego osadzania z fazy gazowej (Physical Vapor Deposition, PVD) polega na wykorzystaniu metod fizycznych w warunkach próżni w celu odparowania powierzchni materiału źródłowego (stałego lub ciekłego) do atomów lub cząsteczek gazowych, bądź częściowej jonizacji do jonów, a następnie przepuszczenia ich przez gaz niskociśnieniowy (lub plazmę). Proces ten, technologia osadzania cienkich warstw o ​​specjalnej funkcji na powierzchni podłoża, a fizyczne osadzanie z fazy gazowej jest jedną z głównych technologii obróbki powierzchni. Technologia powlekania PVD (Physical Vapor Deposition) dzieli się na trzy główne kategorie: powlekanie przez parowanie próżniowe, powlekanie przez rozpylanie próżniowe oraz powlekanie jonowe próżniowe.

Nasze produkty są wykorzystywane głównie w procesie naparowywania termicznego i powlekania natryskowego. Produkty stosowane w procesie naparowywania z fazy gazowej obejmują drut wolframowy, łódki wolframowe, łódki molibdenowe i łódki tantalowe. Produkty stosowane w procesie powlekania wiązką elektronów to drut katodowy wolframowy, tygiel miedziany, tygiel wolframowy oraz elementy do obróbki molibdenu. Produkty stosowane w procesie powlekania natryskowego obejmują tarcze tytanowe, tarcze chromowe oraz tarcze tytanowo-aluminiowe.

Powłoka PVD